首届哈瓦那设计双年展将颁发ONDi奖

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05月

哈瓦那首届设计双年展将举办ONDi奖。

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哈瓦那设计双年展,BDHabana 2016,将于5月14日至20日举行的盛大活动,将在其第一版举办2016年ONDi设计奖的交付和展览。

今年,颁发古巴该部门管理机构国家设计办公室(ONDi)颁发的最高奖项旨在鼓励和促进该活动在工业,文化和社会中的存在, ACN。

根据电话会议,专业人士和设计专业学生或相关职业 - 居住在该国的古巴人 - 可能在2014年和2015年期间单独或共同开发影响产品的项目,产品或系统。

它将参与视觉传达设计和工业设计类别的比赛,其中包括服装设计,每个奖项将颁发三个奖项,此外还将获得大奖,作为对最相关工作的特别认可。

要提交的文件的一部分是登记表,可以通过电子邮件[email protected][email protected]索取,或者在ONDi的登记区获得,在Tulipán之间的Calle Loma预约。和Lombillo,725号,Nuevo Vedado,Plaza delaRevolución市,哈瓦那。

它还必须以印刷版和数字版的形式提供项目或竞争产品的基础,包括其主要功能,预期用户,计划,照片和其他要求的技术报告,可通过以前的电子地址查阅。

根据颁奖的要求,提案的截止日期将于4月1日结束,今年的奖项与BDHabana 2016分享最大的设计和繁荣。

这个在大安的列斯群岛设计的伟大任命将在Camagüey和古巴圣地亚哥设有分支机构,并将在哈瓦那会议宫举办相关的理论活动,此外还有展览,研讨会或讲习班,会议,走秀和旅游。

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